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1200°C二通道混气高真空CVD系统

型号:

OTF-1200X-HVC

产品概述:

OTF-1200X--HVC是由OTF-1200X-单温区管式炉,二路质子混气系统和高真空机组组成。其最高工作温度可达1200°C,极限真空度可达 10-5 torr。混气系统可以对两种气体进行精确的混气,然后导入到管式炉内部。

主要特点

高熔点物质能够在低温下合成

可生长单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种物质

1700二通道混气高真空CVD系统

产品型号:

GSL-1700℃X-HVC

产品概括:

GSL-1700X-HVC是一款CE认证的二通道高真空CVD系统,它是由二路质子混气系统和高真空机组组成,其最高工作温度可达1600℃,极限高真空度可达to10-5torr.混气系统可以对两种气体进行精确地混气,然后导入到管式炉内部。

KTL-CVD-1700-1400双温区CVD系统

产品名称:KTL-CVD-1700-1400双温区CVD系统

型号:KTL-CVD-1700-1400

产品摘要:

CVD系统由供气系统+双温区管式炉+抽气系统组成 ,最高温度可以达到1200度、1400度、1600度、1700度,加热区间可以是单温区、双温区、三温区等,极限真空可以达到10-3Pa,供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计,混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合。

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