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1200°C二通道混气高真空CVD系统

型号:

OTF-1200X-HVC

产品概述:

OTF-1200X--HVC是由OTF-1200X-单温区管式炉,二路质子混气系统和高真空机组组成。其最高工作温度可达1200°C,极限真空度可达 10-5 torr。混气系统可以对两种气体进行精确的混气,然后导入到管式炉内部。

主要特点

高熔点物质能够在低温下合成

可生长单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种物质

不仅可以在基片上进行生长,还可以在粉体表面生长

一、 热炉:

温度: 1100C(1200C<1h)

总加热度: 440mm

升温速率:E10C/min

恒温精度:土1C

热偶:K型热偶

电源:C208-24050/60Hz

功率:最大2.5KW

基本参数:

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加热元件和温控系统

掺铂铁铬铝(表面涂有氧化错涂层,可以极大程度延长使用寿命)

包含一款YD518P型温度控制器

PID自动控温系统

智能化30段可编程控制

认DB9PC通信连接端口

通过MET认证

可选购电脑温度控制软件(用于YD518P系列控制器)用于控制升温曲线和导出数据。

炉体结构和炉管尺寸:

采用双层壳体结构,并带有风冷系统

高纯氧化铝纤维作为炉膛材料(表面涂有高温氧化铝涂层,可提高加热效率延长炉腔使用寿命)

高纯石英管

尺寸:外径: 50 X长: 1000 mm

外径: 60 X长: 1000 mm

外径:80 X长: 1000 mm外径: 100 X长: 1000 mm

尺寸:

加热炉外形尺寸:1000 L x 300 Wx550Hmm

供气系统外形尺寸: 600(L) x 600(w) x 700(H),ITT

高真空机组外形尺寸: 600 (L) x 600 (W) x 700(H), mm

重量:

加热炉约40Kg

供气系统约36Kg

真空机组约60Kg


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