莱特仪器

化学气相沉积（CVD）系统在现代材料科学领域中扮演着至关重要的角色，其卓越的性能和广泛的应用使其成为研究和工业领域的得力工具。

CVD 系统的高度可控性是其最为显著的优点之一。通过精确控制各种参数，如温度、压力、气体流量和反应时间，能够实现对薄膜生长过程的精准调控，从而获得具有特定性能和结构的高质量薄膜。

该系统具有广泛的材料适应性，可以用于制备各种类型的薄膜，无论是金属、半导体、氧化物还是其他复杂的材料体系，都能通过 CVD 系统实现。