莱特仪器

你有没有遇见过管式炉出现故障的情况？你是怎么处理的呢？当管式炉出现故障时，很可能会影响我们的一些工作或者研究进程，那么掌握稍许相关知识，很有可能最短的时间内帮我们解决问题。以下总结了一些可能出现的状况供参考：

1仪表无电源显示：

故障原因：电源未接入、电源线故障、内部保险丝熔断。

排除方法：检查电源插座、电源开关和电源线是否正常，确认是否有供电。如果是保险丝问题，需要断电后检查并更换合适的保险丝。

行星式球磨机是一种高效、多功能的研磨设备，广泛应用于多个领域。以下是一些主要的应用领域：

材料科学与陶瓷领域：它可以将原料研磨成超细粉体，这对于后续的成型、烧成等工艺至关重要。同时，它还可以用于制备各种高性能复合材料，通过混合和研磨不同性能的原料，可以制备出具有优异力学性能、耐热性能、电磁性能等复合材料，满足各种工程应用的需求。

化工与冶金领域：这种设备可以对多种原料进行混合，以便进行后续的加工和处理。在新能源领域，如太阳能电池板的制备过程中，行星式球磨机可以通过将硅片和其它原料进行混合和研磨，提高光电转换效率和稳定性。

行星式球磨机作为实验室和工业生产中常用的研磨设备，为保其长期稳定、高效运行，并延长其使用寿命，做好保养至关重要。这里整理了一些保养的关键事宜：

1.外部与内部清洁：定期清理机器外部表面，防止尘埃和污物积累，尤其是保持气缸（研磨罐所在区域）内部的清洁，避免样品残留导致交叉污染或影响研磨效果。清理减速器内部，防止漏油、缺油，以及油品老化导致的润滑失效。

2.定期更换润滑油：定期检查行星齿轮部位等并按照说明书推荐的润滑周期和油品类型进行加注。定期检查传动系统包括三角带、轴承等部件是否磨损，及时更换或调整。也要定期加注润滑油脂，确保传动系统的正常运转。同时，也要定期检查油封是否完好，防止润滑油泄漏。

化学气相沉积（CVD）系统在现代材料科学领域中扮演着至关重要的角色，其卓越的性能和广泛的应用使其成为研究和工业领域的得力工具。

CVD 系统的高度可控性是其最为显著的优点之一。通过精确控制各种参数，如温度、压力、气体流量和反应时间，能够实现对薄膜生长过程的精准调控，从而获得具有特定性能和结构的高质量薄膜。

该系统具有广泛的材料适应性，可以用于制备各种类型的薄膜，无论是金属、半导体、氧化物还是其他复杂的材料体系，都能通过 CVD 系统实现。

行星式球磨机是一种高能球磨设备，主要用于材料科学、化学、冶金等领域的研究和生产。它的工作原理是通过研磨罐的自转和公转，使研磨球和物料在罐内进行高速碰撞和摩擦，从而实现对物料的研磨和混合。

它由研磨罐、研磨球、行星盘、电机和控制系统几个主要部分组成。研磨罐通常是由不锈钢或陶瓷制成的，内部装有研磨球和物料。行星盘则是安装在研磨罐底部的转盘，它通过电机的驱动，使研磨罐和研磨球绕着公共轴心进行公转和自转。控制系统则用于调节研磨时间、转速和温度等参数，以实现对研磨过程的精确控制。

球磨机是一种重要的粉碎机械，主要用于矿石、矿物、陶瓷原料、化工原料以及其他需要进行细磨物料的加工或有些材料的混合。它的核心工作部件是一个水平放置且内部为空心的圆筒，该圆筒绕自身轴线做低速旋转运动。筒体内装有大量的研磨介质，通常是不同尺寸的钢球，或者是其他材质如氧化锆球、氧化铝球或鹅卵石、瓷球等。

其工作原理是临界速度：设备启动后，当转速低于某一临界转速时，钢球沿筒体作离心运动，随着筒体一起旋转，此时研磨体对物料只产生撞击作用。当转速高于临界转速时，研磨体产生的离心率大于筒体对研磨体的摩擦力，研磨体被甩向筒体内壁并沿筒体内壁上升。筒体旋转使得研磨介质在筒内受到离心力作用对筒内的物料产生剧烈冲击造成碰撞和摩擦，使物料逐渐粉碎。同时，研磨介质在下滑和滚动过程中也会对物料施加压力和剪切力，从而实现物料的破碎和细磨。

晶体炉，也叫晶体生长炉，是一种精密的高科技设备，以其独特的工作原理和广泛的应用领域，在多个行业中发挥着至关重要的作用。作为一种热处理设备，其核心技术在于能精确控制温度和压力，从熔融状态中生长出高质量的晶体材料。

它的结构构造独特，通常采用高温材料和精密的机械系统，来确保炉内工作环境地稳定进行。在工作过程中，它通过精确控制加热元件和温度传感器，实现对炉内温度的精确调控。同时，炉内的压力系统也能根据工作需要进行调整，以满足不同晶体生长的需求。

管式炉是一种重要的实验设备，主要用于材料科学、化学、冶金等领域的研究和开发。它通常由加热元件、炉管、热电偶、控温系统等组成，可以在高温下对样品进行加热和处理。

它的工作原理是将电能转化为热能，对炉内的物料进行加热和处理。当电流通过加热元件时，加热元件会产生热量，这些热量会传递给炉管和炉内的物料。热电偶可以测量炉内的温度，并将温度信号反馈给控温系统。控温系统会根据设定的温度值和热电偶反馈的温度信号，自动调节加热元件的功率，以保持炉内的温度稳定在设定值范围内。

型号:

OTF-1200X-HVC

产品概述:

OTF-1200X--HVC是由OTF-1200X-单温区管式炉，二路质子混气系统和高真空机组组成。其最高工作温度可达1200°C，极限真空度可达 10-5 torr。混气系统可以对两种气体进行精确的混气，然后导入到管式炉内部。

主要特点：

高熔点物质能够在低温下合成

可生长单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种物质

型号:

KSL-1800X-GX

产品概述:

KSL-1800X-GX是系列大型高温箱式炉，采用下装载方式进料，装载盘承重可达300kq。此款设备可对大批量样品在空气或氧气环境下进行热处理

设备名称：

1800C大型箱式气氛炉高真空系统一KSL-1800X-G1/KSL-1800X-G2